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Recent Patents on Nanotechnology

SCIE
Recent Patents on Nanotechnology
雜志名稱:納米技術的最新專利
簡稱:RECENT PAT NANOTECH
期刊ISSN:1872-2105
大類研究方向:工程技術
影響因子:1.75
數據庫類型:SCIE
是否OA:No
出版地:U ARAB EMIRATES
年文章數:23
小類研究方向:工程技術-材料科學:綜合
審稿速度:約3.0個月
平均錄用比例:容易

官方網站:http://benthamscience.com/journal/index.php?journalID=rpnanotec

投稿網址:http://bsp-cms.eurekaselect.com/index.php/NANOTEC/login?source=%2Findex.php%2FNANOTEC

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Recent Patents on Nanotechnology

英文簡介

Recent Patents on Nanotechnology publishes full-length/mini reviews and research articles that reflect or deal with studies in relation to a patent, application of reported patents in a study, discussion of comparison of results regarding application of a given patent, etc., and also guest edited thematic issues on recent patents in the field of nanotechnology. A selection of important and recent patents on nanotechnology is also included in the journal. The journal is essential reading for all researchers involved in nanotechnology.

Recent Patents on Nanotechnology

中文簡介

最近納米技術專利發表長篇/迷你評論和研究文章,反映或處理研究與專利,申請專利報道的研究中,討論的比較結果對于一個給定的應用專利,等等,還有客人編輯主題問題最近在納米技術領域的專利。該雜志還收錄了一些重要的和最新的納米技術專利。該雜志是所有涉及納米技術的研究人員的必讀書。

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